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  • 第二屆國際背光源技術(上海)展覽會 展覽概況
  • 第二屆國際背光源技術(上海)展覽會
    The 2nd International Backlight(Shanghai)Expo
    展覽時間:2013年5月22日至24日
    展會地點:上海世博展覽館 /浦東新區世博館路111號
    展會網址:blu.zyexpo.com
    [亞洲唯一背光源技術展]
      在顯示技術不斷進步的今天,巨大的LED顯示市場註定將背光源行業發展成為一個龐大的產業。作為顯示核心部件背光源,它的發光效果、功耗和質量將決定產品的顯像效果和壽命,在以手機、 PDA 、數字相機(DSC)、汽車(顯示器)、液晶顯示器 、液晶電視、家用電器、燈箱廣告等行業背光源獲得廣泛市場應用。
      "第二屆國際背光源技術(上海)展覽會,簡稱「APFE2013」,是亞太地區首創背光源產業的最大規模盛會,將於2013年5月22日-24日在上海世博展覽館舉辦,同期與“第九屆國際模切展(全球最大)”隆重開展,涉及展覽總規模達18,000平方米,600多家展商預計將有來自國內外30,000人次的專業觀眾到場參觀!
    2013年5月的上海,我們盛情邀請您以參展、參觀、采購、交流合作等各種形式來到[APFE2013]!
    [展會背景]
    上屆【背光源展】已於上海世博展覽館成功舉辦,在全球範圍為首創的背光源技術展,得到國內外背光源領域品牌企業大力支持,如英國TEKNEK、韓國樹研光學、德國亞德科、美國輻深、韓國FILEMAX、PROTEM、HI-LAND、SEKISUI、FUJI SHOKO、台灣郡威、岱棱、佑順發、豪晶、旌陽、SYSCO、東芝、康得新、布雷德、菲斯特、民特英、德龍等上百家企業參展。展會共接待來自手機、電腦、家電、終端電子制造商、面板、背光模組、模切、材料供應商等將近20,000觀眾到場參觀。
  • 第二屆國際背光源技術(上海)展覽會 展覽範圍
  • 背光源(背光模組)及相關導光板、光學膜、光源、背光組裝技術、背光模組的檢測儀器及檢測技術、背光模組制作設備等。
  • 第二屆國際背光源技術(上海)展覽會 參展費用
  • 1、國際標準展位:9m2(3m×3m)分設T 區(國際區),A 區(國內區);
    A 區:國內企業RMB 9800/展位 :國內企業RMB 1000/m2/展期光地
    T 區:國際展區USD 2000/展位 :國際展區USD 200/m2/展期光地
  • 第二屆國際背光源技術(上海)展覽會 註意事項
  • 同期舉辦:第九屆國際模切(上海)展覽會
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    城市:上海
    電話:
    地址:上海浦東世博園區B片區
    官網:
    介紹:展館詳情:   上海世博會設有五個主題館,其中城市人館、城市生命館和城市地球館三個主題館位於浦東B... >>詳細
  • 第二屆國際背光源技術(上海)展覽會 組織機構
  • 主辦單位:正亞展覽機構
    組織單位:上海富亞展覽有限公司、廣州正亞展覽有限公司、台灣光電半導體產業協會
  • 第二屆國際背光源技術(上海)展覽會 參展聯絡
  • [APFE2013]-聯絡機構:
    正亞展覽有限公司(背光源展始創者)
    電話:021-33518235/6/7轉206
    傳真:021-33518235/6/7轉226
    聯系人:慕宇 15221822855
    E-mail:zyexpo@vip.126.com
    網址:blu.zyexpo.com
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